La evaporación de la máquina de recubrimiento al vacío es un proceso importante
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La evaporación de la máquina de recubrimiento al vacío es un proceso importante
Se analizan las características del control del espesor de la película del recubridor de haz de electrones EI-5Z. Con la ayuda de los resultados experimentales y la investigación teórica, se rediseñó una placa de ajuste más práctica y se obtuvo un mejor rendimiento de la película: la desviación dentro del sustrato estaba dentro del ±3 por ciento, y la desviación entre el mismo lote de sustratos estaba dentro del rango de ±5 por ciento Interior. Cumplir con los requisitos de la producción en masa.
En la producción de semiconductores, la evaporación es un proceso importante. La precisión del control del espesor de la película es un indicador clave para medir el efecto de evaporación, que afecta directamente el proceso de producción posterior y el rendimiento del producto final. En la producción en masa, por un lado, se enfatiza la medición precisa del espesor de la película y, por otro lado, la uniformidad del espesor de la película, es decir, el cambio del espesor de la película con la superficie del sustrato y el cambio del espesor de la película. entre sustratos en diferentes posiciones en el bastidor— También existen grandes demandas.
El principio básico de la evaporación de la máquina de recubrimiento al vacío.
La evaporación es la técnica más antigua en el método de depositar películas delgadas en condiciones de vacío. Con el tiempo, en muchas aplicaciones, se ha ido reemplazando gradualmente por otros métodos, como SPUTERRING o PECVD, pero siempre que grandes superficies requieran una alta velocidad de deposición de películas delgadas, la tecnología de evaporación sigue siendo la solución más utilizada y económica.
El principio técnico de la evaporación es muy simple. La sustancia a evaporar (fuente de evaporación) se coloca en un recipiente específico (crisol) en una cámara específica donde se realizará la operación de evaporación y se calienta a una temperatura determinada en condiciones de vacío. Hay dos métodos para calentar el material evaporado, por un haz de electrones excitado por un campo magnético inducido, o por calentamiento con alambre de resistencia. En la parte de la cámara de evaporación que no está protegida por el obturador, las sustancias evaporadas se depositarán en la superficie formando una fina película.
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