Tecnología de recubrimiento común para tubos de calefacción eléctrica - Recubrimiento iónico
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Tecnología de recubrimiento común para tubos de calefacción eléctrica - Recubrimiento iónico
El recubrimiento de iones es una técnica de deposición física de vapor, generalmente llevada a cabo en un entorno de plasma de descarga de gas a baja presión, también conocido como deposición de vapor de iones. El recubrimiento iónico no solo puede depositar metales y aleaciones individuales, sino también obtener recubrimientos de compuestos metálicos y no metálicos que no se pueden obtener mediante galvanoplastia y recubrimiento químico. La dureza y la resistencia al desgaste de este recubrimiento son extremadamente altas. Si se utiliza para herramientas de corte, puede mejorar significativamente la velocidad de corte y la vida útil de las herramientas, así como mejorar el proceso de corte y la precisión del mecanizado. En general, el recubrimiento del recubrimiento iónico es muy delgado, por lo que el recubrimiento del recubrimiento iónico a menudo se denomina recubrimiento. Más importante aún, los recubrimientos tradicionales de evaporación al vacío y pulverización catódica utilizan principalmente partículas neutras para formar películas. La velocidad a la que las partículas de la película alcanzan el sustrato es relativamente baja, lo que da lugar a problemas tales como una tasa de deposición baja, una adhesión deficiente de la capa de la película y una capa de la película no densa. El recubrimiento iónico puede resolver estos problemas de manera efectiva.
El principio de la tecnología de recubrimiento iónico. La tecnología de recubrimiento iónico utiliza equipos especializados y materias primas químicas específicas a base de agua, y aplica el principio de reacción química para lograr el efecto de galvanoplastia a través de la pulverización directa, lo que da como resultado un efecto de espejo de alto brillo como el cromo, el níquel, el oro y varios colores. colores degradados en la superficie del objeto rociado.
Clasificación de las técnicas de recubrimiento iónico. De acuerdo con el método de obtención de partículas de película, el recubrimiento iónico se puede dividir en recubrimiento iónico de tipo vapor y recubrimiento iónico de tipo pulverización catódica. Entre ellos, el recubrimiento de iones de tipo vapor se puede dividir en recubrimiento de iones de tipo secundario de CC, recubrimiento de iones de arco de alambre caliente, recubrimiento de iones de cátodo hueco y recubrimiento de iones de cátodo caliente en función de diferentes principios de descarga. El recubrimiento de iones secundarios de CC utiliza puntos de descarga de brillo estables, recubrimiento de iones de cátodo hueco y recubrimiento de iones de arco de alambre caliente, los cuales son descarga de arco caliente. El revestimiento de iones de arco catódico tiene el tipo de descarga más singular, utilizando descarga de arco frío. Entre numerosas tecnologías de recubrimiento iónico, el recubrimiento iónico de arco catódico es la más completa y se está convirtiendo gradualmente en la fuerza principal en el campo de las películas delgadas y duras. En primer lugar, cuando la aguja de arco con un potencial positivo se acerca al material objetivo con un potencial negativo, y la distancia entre los polos positivo y negativo es lo suficientemente pequeña, el gas entre los dos polos se descompondrá y formará una corriente Hu. En este momento, algo de nitrógeno sufrirá ionización, formando cationes de nitrógeno y electrones. Atraídos por la fuerza del campo eléctrico, los cationes de nitrógeno volarán cerca del material del objetivo del cátodo, mientras que los electrones volarán hacia la aguja que golpea el arco. Cuando los electrones alcanzan el ánodo, las partículas no podrán alcanzar la superficie del objetivo del cátodo. En segundo lugar, se acumularán cerca de la superficie objetivo, formando una capa de acumulación de iones positivos. Luego, los electrones volarán hacia la capa de apilamiento de iones positivos, formando una corriente eléctrica. La capa de apilamiento y la superficie del objetivo son conductoras, generando un arco cerca de la superficie del objetivo, evaporando el material del objetivo y atrayendo iones positivos, lo que da como resultado la pulverización catódica.
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